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产品描述：
以氯氧化锆(gao)为原料，经萃取工艺(yi)进行锆(gao)铪分离，得到二氧化铪。
应用范围：
铪的(de)热(re)中子捕(bu)获截面大(da)，是较理想的(de)中子吸收体，可(ke)作(zuo)原子反应(ying)堆的(de)控(kong)制棒(bang)和保护装置。铪粉(fen)可(ke)作(zuo)火箭的(de)推(tui)进器。在电器工业上可(ke)制造X射线管的(de)阴(yin)极。Hf-Ta合金(jin)可(ke)制造工具(ju)钢及电阻材料等。
二氧(yang)化(hua)铪(ha)是一种具有宽带隙(xi)和高(gao)介(jie)电(dian)常数的(de)(de)陶瓷材料，近来在工业界(jie)特别是微电(dian)子领域被引起(qi)极度的(de)(de)关(guan)注，由于它最可能替(ti)代硅基集成电(dian)路的(de)(de)核(he)心器件(jian)金属氧(yang)化(hua)物半导体场效应管的(de)(de)栅极绝缘层二氧(yang)化(hua)硅，以解决(jue)MOSFET中传统SiO2/Si结构(gou)的(de)(de)发(fa)展的(de)(de)尺(chi)寸极限问(wen)题。
技术指标：
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项目 |
HfO2+ZrO2 |
烧失量 |
ZrO2 |
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一(yi)级 |
二级 |
三级 |
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含(han)量/% |
≥96 |
≤0.5 |
≤0.5 |
≤1 |
≤3 |
*标准(zhun)样品(pin)由客户与供应商协商确定
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安全 应采用良好的工业卫生习惯(guan)，避免产(chan)生灰尘。有关(guan)本产(chan)品处理的更多信(xin)息，请参(can)阅材料安全数据表。 |
储存 本(ben)产品(pin)不应该存放在室外或露天存放。应当避免任何与水(shui)分及酸碱的(de)腐蚀成分的(de)直(zhi)接接触(chu)。 |
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食品接触 客户(hu)应当通(tong)过联系龙佰集团以寻求确认遵守具体规(gui)定。 |
包装 100kg/桶，内(nei)塑外铁(tie)桶。 |